当今世界最高科技的是微电子,其核心是集成电路IC的制造,在复杂的生产过程中要大量使用硫酸、氢氟酸、乙醇、过氧化氢等超纯化学品。由于IC极其严格的要求是人类工业化生产唯一的,杂质对IC生产是致命的,所用化学品必须是超纯的,其质量要求也是极为苛刻的。HABO为氢氟酸、氢氧化钾、过氧化氢等产品国家标准制定单位之一。
半导体级过氧化氢应符合下列要求 单位:ppb
项目 |
规格与指标 |
|||
SHPⅠ |
SHPⅡ |
SHPⅢ |
SHPⅣ |
|
过氧化氢含量 |
30%-32% 35%-37% 48%-50% |
|||
酸度(以H2SO4计) |
30000 |
30000 |
30000 |
20000 |
氯离子(以Cl计) |
1000 |
300 |
100 |
30 |
硫酸根(SO42-计) |
1000 |
300 |
100 |
30 |
硝酸根 (以NO3-计) |
1000 |
300 |
100 |
30 |
磷酸根(PO43-计) |
1000 |
300 |
100 |
30 |
铁(Fe) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
铜(Cu) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
铝(Al) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
锡(Sn) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
砷(As) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
铅(Pb) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
铬(Cr) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
镉(Cd) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
锑(Sb) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
汞(Hg) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
钒(V) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
钾(K) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
钙(Ca) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
钠(Na) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
指标 |
指 标 |
|||
SHPⅠ |
SHPⅡ |
SHPⅢ |
SHPⅣ |
|
镁(Mg) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
钡(Ba) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
钯(Pd) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
铋(Bi) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
钴(Co) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
镓(Ga) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
锗(Ge) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
金(Au) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
锂(Li) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
锰(Mn) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
钼(Mo) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
镍(Ni) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
银(Ag) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
铂(Pt) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
钛(Ti) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
锌(Zn) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
铍(Pe) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
硼(B) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
硅(Si) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
总有机碳(TOC) |
40000 |
30000 |
20000 |
20000 |