超纯化学品
超纯化学品
当今世界最高科技的是微电子，其核心是集成电路IC的制造，在复杂的生产过程中要大量使用硫酸、氢氟酸、乙醇、过氧化氢等超纯化学品。由于IC极其严格的要求是人类工业化生产唯一的，杂质对IC生产是致命的，所用化学品必须是超纯的，其质量要求也是极为苛刻的。HABO为氢氟酸、氢氧化钾、过氧化氢等产品国家标准制定单位之一。
半导体级过氧化氢应符合下列要求 单位：ppb
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项目 |
规格与指标 |
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SHPⅠ |
SHPⅡ |
SHPⅢ |
SHPⅣ |
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过氧化氢含量 |
30%-32% 35%-37% 48%-50% |
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酸度（以H2SO4计） |
30000 |
30000 |
30000 |
20000 |
|
氯离子(以Cl计) |
1000 |
300 |
100 |
30 |
|
硫酸根（SO42-计） |
1000 |
300 |
100 |
30 |
|
硝酸根 (以NO3-计) |
1000 |
300 |
100 |
30 |
|
磷酸根（PO43-计） |
1000 |
300 |
100 |
30 |
|
铁(Fe) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
铜(Cu) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
铝(Al) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
锡(Sn) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
砷(As) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
铅(Pb) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
铬(Cr) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
镉(Cd) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
锑(Sb) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
汞(Hg) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
钒（V） |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
钾（K） |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
钙（Ca） |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
钠(Na) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
指标 |
指 标 |
|||
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SHPⅠ |
SHPⅡ |
SHPⅢ |
SHPⅣ |
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|
镁(Mg) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
钡(Ba) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
钯(Pd) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
铋(Bi) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
钴(Co) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
镓(Ga) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
锗(Ge) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
金(Au) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
锂(Li) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
锰(Mn) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
钼(Mo) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
镍(Ni) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
银(Ag) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
铂(Pt) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
钛(Ti) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
锌(Zn) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
铍(Pe) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
硼(B) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
硅(Si) |
100 |
10 |
1 |
0.1 |
|
总有机碳(TOC) |
40000 |
30000 |
20000 |
20000 |
- 手消毒液说明上一个：
- 过氧化氢作为推进剂的应用下一个：
